溫度對于高速鋼鍍膜具有重大意義。CVD法的工藝溫度超過了高速鋼的回火溫度，用CVD法鍍制的高速鋼工件，必須進行鍍膜后的真空熱處理，以恢復硬度。鍍后熱處理會產(chǎn)生不容許的變形。CVD工藝對進入反應器工件的清潔要求比PVD工藝低一些，因為附著在工件表面的一些臟東西很容易在高溫下燒掉。此外，高溫下得到的鍍層結(jié)合強度要更好些。CVD鍍層往往比各種PVD鍍層略厚一些， CVD鍍層往往厚度在7.5μm左右，PVD鍍層通常不到2.5μm厚。CVD鍍層的表面略比基體的表面粗糙些。相反，PVD鍍膜如實地反映材料的表面，不用研磨就具有很好的金屬光澤，這在裝飾鍍膜方面十分重要。CVD反應發(fā)生在低真空的氣態(tài)環(huán)境中，具有很好的繞鍍性，所以密封在CVD反應器中的所有工件，除去支承點之外，全部表面都能完全鍍好，甚至深孔、內(nèi)壁也可鍍上。相對而論，所有的PVD技術由于氣壓較低，繞鍍性較差，因此工件背面和側(cè)面的鍍制效果不理想。

PVD的反應器必須減少裝載密度以避免形成陰影，而且裝卡、固定比較復雜。在PVD反應器中，通常工件要不停地轉(zhuǎn)動，并且有時還需要邊轉(zhuǎn)邊往復運動。在CVD工藝過程中，要嚴格控制工藝條件，否則，系統(tǒng)中的反應氣體或反應產(chǎn)物的腐蝕作用會使基體脆化，高溫會使TIN鍍層的晶粒粗大。最初的設備投資PVD是CVD的3～4倍，而PVD工藝的生產(chǎn)周期是CVD的1/10。在CVD的一個操作循環(huán)中，可以對各式各樣的工件進行處理，而PVD就受到很大限制。

綜合比較可以看出，在兩種工藝都可用的范圍內(nèi)，采用PVD要比CVD代價高。PVD是一種完全沒有污染的工序，有人稱它為“綠色工程”。而CVD的反應氣體、反應尾氣都可能具有一定的腐蝕性、可燃性及毒性，反應尾氣中還可能有粉末狀以及碎片狀的物質(zhì)，因此對設備、環(huán)境、操作人員都必須采取一定的措施加以防范。